納米壓印技術

序
前言
第1章 緒論
1.1 引言
1.2 納米壓印技術
1.2.1 納米壓印技術的發展
1.2.2 納米壓印技術的分類
1.2.3 納米壓印技術的研究內容
1.3 納米壓印關鍵性技術
1.3.1 模板
1.3.2 壓印膠
1.3.3 壓印過程缺陷
1.3.4 對准套刻工藝
1.3.5 三維結構壓印
1.3.6 刻蝕結構轉移
1.4 納米壓印技術的研究現狀和趨勢
1.4.1 國內外文獻分析
1.4.2 國內外專利分析
1.4.3 國外納米壓印設備介紹
1.5 納米壓印技術的應用與前景
1.6 本書的章節安排
參考文獻
第2章 模板制備
2.1 概述
2.2 制備模板的材料
2.3 制備模板的方法
2.3.1 電子束光刻
2.3.2 離子束光刻
2.3.3 極紫外光刻
2.3.4 X射線光刻
2.3.5 激光全息光刻
2.3.6 單層納米球刻印術
2.3.7 邊緣光刻
2.3.8 化學氣相沉積
2.3.9 濕法刻蝕
2.3.10 嵌段聚合物組裝模板
2.3.11 軟模板復型
2.3.12 氧化法制多孔氧化鋁模板
2.3.13 電鑄法
2.3.14 原子力顯微鏡刻蝕
2.4 模板檢測的方法
2.4.1 掃描電子顯微鏡
2.4.2 原子力顯微鏡
2.4.3 小角度X射線散射
2.4.4 光學顯微鏡
2.4.5 模板結構的評價
2.5 有關模板的關鍵性技術問題
2.6 本章小結
參考文獻
第3章 納米壓印光刻膠
3.1 概述
3.2 光刻膠材料的選擇標准
3.2.1 成膜性能
3.2.2 壓印性能
3.2.3 抗刻蝕性能
3.3 不同種類壓印光刻膠
3.3.1 熱壓印光刻膠
3.3.2 紫外壓印光刻膠
3.3.3 步進壓印光刻膠
3.3.4 滾動式壓印光刻膠
3.3.5 微接觸印刷
3.4 本章小結
參考文獻
第4章 納米壓印工藝
第5章 刻蝕
第6章 納米壓印技術在發光二極管上的應用
第7章 納米壓印工藝在制作相變存儲器件的應用
第8章 納米壓印技術在其他領域的應用